一种光刻版组件及检测光刻对准精度的方法

摘要：

本发明属于半导体领域或微机械领域光刻技术的研究，具体涉及一种具有对准精度检测标记的光刻版和检测方法，公开了对准精度检测标记的设计、制作及使用方法。在光刻版上，除了制作通常的图形区（1）、对准标记（2）之外，在其余空白区域制备对准精度检测标记（3），该对准精度检测标记由第一检测基准图案（31）、图形保护区（32）、第二误差显示标记（33）、数字序号图案（34）四部分组成，通过制作在两块或两块以上的不同光刻版上的对准精度检测标记的配合，可以在光刻过程中实现对准精度的快速检测。本发明解决了现有光刻技术对准精度检测不方便或在某些特定情况下无法检测的问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210539467.4

申请日期：2012-12-14

公开/公告号：CN103869603A

公开/公告日：2014-06-18

主分类号：G03F1/42(2012.01)I

申请/专利权人:上海空间电源研究所

发明/设计人:雷刚;沈恋英

主申请人地址:200245 上海市闵行区东川路2965号

专利代理机构:上海航天局专利中心 31107

代理人:金家山

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻版组件，其特征在于，包括：至少两块光刻版；在同一器件或产品的光刻工艺中，第一块光刻版用于第一步光刻，第二块光刻版用于第二步光刻；所述第一块光刻版包括第一检测基准图案，所述第二块光刻版包括第二误差显示标记；所述第一检测基准图案与第二误差显示标记中心正对，且第二误差显示标记边上有缺口。