一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统

摘要：

本发明提出一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声；其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元。本发明综合利用两个光学通道中的光强信号，通过对对准信号进行归一化，提高对准信号的质量。消除或降低了照明光源的光强波动对信号的影响，提高了对准信号的质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210530461.0

申请日期：2012-12-11

公开/公告号：CN103869628A

公开/公告日：2014-06-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:李运锋

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声；    其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元。