一种去除残留光刻胶的方法

摘要：

本发明涉及一种去除残留光刻胶的方法，其特征在于，所述方法步骤如下：配备清洗液：取浓硫酸和双氧水以1:5的比例混合；将配备出的清洗液放入自动冷却装置中，打开机械臂开关及循环水开关，使清洗液迅速降温至室温，关上开关；将待清洗的芯片放至清洗液中，浸泡5分钟；将清洗完的芯片放入烘干机内烘干。本发明能够快速的将清洗液冷却至常温，使双氧水能够保持最大的功效，保证了清洗液的纯度，从而使残留光刻胶去除的更为彻底，保证了芯片的良率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210452177.6

申请日期：2012-11-13

公开/公告号：CN103809395A

公开/公告日：2014-05-21

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:孙庆东

发明/设计人:孙庆东

主申请人地址:264000 山东省烟台市高新区东谭家泊村

专利代理机构:北京轻创知识产权代理有限公司 11212

代理人:王澎

国别省市代码:山东;37

权利要求：

一种去除残留光刻胶的方法，其特征在于，所述方法步骤如下：（1）配备清洗液：取浓硫酸和双氧水以1:5的比例混合；（2）将配备出的清洗液放入自动冷却装置中，打开机械臂开关及循环水开关，使清洗液迅速降温至室温，关上开关；（3）将待清洗的芯片放至清洗液中，浸泡5分钟；（4）将清洗完的芯片放入烘干机内烘干。