一种接近式光刻机

摘要：

本发明提供了一种接近式光刻机，包括：支架监测装置、载台和掩膜台；其中，所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查。所述支架监测装置能够实现载台和掩膜台共用，分别检查对载台和掩膜台，以解决前后不同彩色滤光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura是由掩膜台异常还是载台异常所引起的问题。本发明使得接近式光刻机功能更齐全，自动化程度更高，能够减少人员进出高洁净度的机台内部，充分利用了机台内部空间。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210434929.6

申请日期：2012-11-02

公开/公告号：CN103792794A

公开/公告日：2014-05-14

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:李会丽;张俊;闻人青青;李志丹

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种接近式光刻机，其特征在于，包括：光学系统，支架监测装置、载台和掩膜台；其中，所述支架监测装置安装在非生产状态下的所述载台的原位区的上方，用于对掩膜台和/或载台进行检查；所述掩膜台在所述载台上方。