一种套刻误差测量装置及方法
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一种套刻误差测量装置及方法

引用
本发明提供的一种套刻误差测量装置及方法,采用宽波段光源,其发出的宽波段测量光束经分束镜转折后通过物镜正入射到套刻测量标记上并发生衍射,衍射光经过物镜和分束镜后被第一探测器接收,可由此测得衍射光强,并进一步计算高级次衍射光光谱强度的非对称性得到套刻误差,采用宽波段测量范围广,具有良好的工艺适应性,而正入射的测量光束,使得焦深大,降低了对测量焦面位置的控制难度,从而提高了实际测量中的可行性,并能够获取高精度的测量结果。

发明专利

CN201210402315.X

2012-10-19

CN103777467A

2014-05-07

G03F7/20(2006.01)I

上海微电子装备有限公司

陆海亮;王帆

201203 上海市浦东新区张东路1525号

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

屈蘅%李时云

上海;31

一种套刻误差测量装置,其特征在于,包括:宽波段光源,产生宽波段的测量光束;分束镜,所述分束镜位于所述测量光束的光路径上,使所述测量光束折转;物镜,所述物镜接收并汇聚所述折转后的测量光束使其正入射到套刻测量标记上,同时收集从套刻测量标记上衍射的衍射光;第一探测器,所述第一探测器探测经所述物镜收集并经所述分束镜透射的衍射光的衍射光谱。
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2014-05-07公开
2014-06-04实质审查的生效
2017-08-11专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2016-07-06授权
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