一种关键尺寸测试的校正装置和方法

摘要：

本发明公开了一种关键尺寸测试的校正装置和方法，可以在Mask上设置至少一组Mark，利用所述Mask进行刻蚀工艺后在基板上形成的图形获知DICD的实际值，据此校正CD测试结果。本发明装置和方法，简化了DICD测试值的校准工作，并能够保证校准精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210378201.6

申请日期：2012-10-08

公开/公告号：CN103713471A

公开/公告日：2014-04-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:合肥京东方光电科技有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:黄寅虎;刘同军;白明基

主申请人地址:230011 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号

专利代理机构:北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270

代理人:张颖玲%张振伟

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种关键尺寸测试的校正装置，其特征在于，该装置包括掩膜板Mask，所述掩膜板Mask设置有至少一组标记Mark，所述至少一组标记Mark用于在经过刻蚀工艺后在基板上形成能够获知关键尺寸DICD的实际值的图形。