一种反射式物镜结构及其制造方法

摘要：

一种用于EUV曝光光刻装置的反射式物镜结构及其制造方法，包括：数据采集，物镜外部结构构建以及物镜外部结构模型修正等步骤。本发明基于多面体结构设计，获得的物镜结构更为简单高效，能够达到更好的动态性能和稳定性。同时也符合主基板整体铸造或焊接成型的加工特性，其组合构成的物镜相比现有结构具有高模态、低质量的性能优势。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210339085.7

申请日期：2012-09-14

公开/公告号：CN103676489A

公开/公告日：2014-03-26

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:吴飞;王茜;杨晓青;武珩;陈文枢;王帆

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于EUV曝光光刻装置的多面体物镜结构的制造方法，包括：步骤S1：数据采集，首先根据光学设计确定多面反射镜在三维空间的安装位置，以及光路在空间的布局，对多面体物镜内部的反射镜支撑装置、镜片装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置的安装区域位置进行有效识别和定义，明确所有相关接口的位置点或安装区域的三维空间数据；然后针对EUV反射式物镜镜片位置空间复杂和安装结构的特点，以平面多边形进行离散和近似，以此确定边界点，多边形的面积大于容纳反射镜、反射镜支撑装置、镜筒装置、测量系统、调整装置和冷却系统装置所需的安装区域，对所有的反射镜及其安装附件装置进行多边形离散处理；步骤S2：物镜外部结构构建，?根据步骤S1中采集的多面体物镜、光学接口、测量结构和机械安装位置接口以及支撑装置位置三维空间数据作为输入参数，对三维空间中已知的任意点进行求解，在满足安装空间的前提下，输出物镜的上下表面和外围板的结构获得外形结构为多边形面板的物镜；步骤S3：物镜外部结构模型修正，对获得的物镜的外部结构进行有效的修正。