一种用于光刻曝光的快门装置及其使用方法

摘要：

一种用于光刻曝光的快门装置及其使用方法，包括固定叶片和可动叶片，所述固定叶片和所述可动叶片上分布有孔洞，固定叶片和可动叶片在光束照射区域内的孔洞分布相同，所述可动叶片可通过相对于所述固定叶片运动，使所述可动叶片孔洞与所述固定叶片孔洞由不相交至重合或部分重合，实现快门的开闭。将所述可动叶片孔洞与所述固定叶片孔洞完全交错分开状态设置为快门关闭状态，此时可动叶片的位置为关闭位置；确定曝光剂量范围，将曝光剂量范围分段；确定各个曝光剂量段的可动叶片位置；根据曝光设定剂量，控制可动叶片在所述关闭位置和所述曝光设定剂量所属的曝光剂量段的可动叶片位置之间移动。本发明可以减少曝光时间，提高光束功率的均匀性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210296891.0

申请日期：2012-08-21

公开/公告号：CN103631066A

公开/公告日：2014-03-12

主分类号：G03B7/08(2014.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:孙智超;罗闻

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻曝光的快门装置，其特征在于，包括固定叶片和可动叶片，所述固定叶片和所述可动叶片上分布有孔洞，所述固定叶片和所述可动叶片在光束照射区域内的孔洞分布相同，所述可动叶片可通过相对于所述固定叶片运动，使所述可动叶片孔洞与所述固定叶片孔洞由不相交至重合或部分重合，实现快门的开闭。