一种调焦调平光斑位置校准方法

摘要：

本发明公开一种调焦调平光斑位置校准方法，其特征在于，包括：（a）将一光源经狭缝后在基板上形成测量光斑；（b）移动所述基板至所述测量光斑位置处；（c）扫描所述测量光斑的左右两侧边界，探测所述测量光斑经所述基板反射后的信号，获得所述测量光斑的水平位置及放大倍率；（d）使所述测量光斑在所述基板内侧的边缘步进运动；（e）探测所述测量光斑的实际高度值，根据所述实际高度和所述水平位置进行拟合运算，获得所述测量光斑的零位偏差。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210240355.9

申请日期：2012-07-12

公开/公告号：CN103543610A

公开/公告日：2014-01-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:陈南曙

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种调焦调平光斑位置校准方法，其特征在于，包括：（a）将一光源经狭缝后在基板上形成测量光斑；（b）移动所述基板至所述测量光斑位置处；（c）扫描所述测量光斑的左右两侧边界，探测所述测量光斑经所述基板反射后的信号，获得所述测量光斑的水平位置及放大倍率；（d）使所述测量光斑在所述基板内侧的边缘步进运动；（e）探测所述测量光斑的实际高度值，根据所述实际高度和所述水平位置进行拟合运算，获得所述测量光斑的零位偏差。