1053纳米波段的金属介质膜反射式偏振分束光栅

摘要：

一种1053纳米波段的金属介质膜偏振分束光栅，特点在于其是在石英基底上依次镀制的银层、高反射膜层和矩形光栅构成，该矩形光栅的周期为680.6纳米，占空比为0.2，光栅刻蚀深度为374～476纳米，银层厚度为100纳米，高反射膜层的中间层为高折射率层，内层外层为低折射率层。本发明反射式金属介质膜偏振分束光栅，具有很高的消光比和衍射效率，较宽的带宽和角宽，可以用于高功率激光系统，起到很好的偏振分光效果。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201110275141.0

申请日期：2011-09-16

公开/公告号：CN102289014A

公开/公告日：2011-12-21

主分类号：G02B5/18(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:关贺元;晋云霞;刘世杰;汪剑鹏;范正修

主申请人地址:201800 上海市嘉定区800－211邮政信箱

专利代理机构:上海新天专利代理有限公司 31213

代理人:张泽纯

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于1053纳米波段的金属介质膜偏振分束光栅，其特征在于是在石英基底上，依次镀制的银层（6）、高反射膜层（5）和矩形光栅（1）构成，该矩形光栅（1）的周期为680.6纳米，占空比为0.2，银层（6）厚度为100纳米，刻蚀深度为374~476纳米。