一种用于还原气体气氛平衡的坩埚

摘要：

本实用新型提供了一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体(11)、坩埚盖(13)，其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽(14)或突起(12)，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。本实用新型提供的坩埚能在整个盖实的密闭环境中分层放置不同原料进行烧结，且有利于扩大烧结原料与还原气体的接触面积从而有利于烧结反应的发生。能应用在普通的箱式电炉中，且使用方便，适合工业化生产。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201020213374.9

申请日期：2010-05-31

公开/公告号：CN201779995U

公开/公告日：2011-03-30

主分类号：F27D5/00(2006.01)I

申请/专利权人:比亚迪股份有限公司

发明/设计人:周芳享;陈秋绘

主申请人地址:518118 广东省深圳市龙岗区坪山镇横坪公路3001号

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种用于还原气体气氛平衡的坩埚，该坩埚包括坩埚本体(11)、坩埚盖(13)，其特征在于，所述坩埚还含有位于坩埚壁上、可用于承托物料烧结容器的数个卡槽(14)或突起(12)，所述卡槽的个数为大于等于2的整数，突起的个数为大于等于4的双数。