一种高温真空烘烤炉

摘要：

本实用新型提供一种高温真空烘烤炉，其特征是由内腔室和围绕内腔室的外腔室构成。内腔室包括内筒、加热棒、载物台、热电偶，用来获取1200～1600℃高温；外腔室包括外筒、换热器、进出气口、气缸、真空计，具有中空夹层的不锈钢外筒对整个腔室起真空密封和水冷作用，外腔室后端的换热器加速降温过程通入的冷却气体氮气在内外腔室的流通。根据本实用新型的高温真空烘烤炉烘烤温度高、升降温速度快、本底真空高，有效克服用MOCVD外延炉原位烘烤衬底托盘存在耗时、烘烤不彻底及污染系统等问题，可用于大尺寸和多个衬底托盘烘烤，有效提高外延片材料生产效率和成品率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201020168779.5

申请日期：2010-03-30

公开/公告号：CN201740384U

公开/公告日：2011-02-09

主分类号：F27B17/00(2006.01)I

申请/专利权人:杭州海鲸光电科技有限公司%施建江

发明/设计人:施建江;刘祥林;张晓沛;杨少延

主申请人地址:311200 浙江省杭州市萧山经济技术开发区江东工业园区青六北路1299号

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所 11105

代理人:陶凤波%屈玉华

国别省市代码:浙江;33

权利要求：

一种高温真空烘烤炉，其特征在于：由内腔室和围绕内腔室的外腔室构成。