一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺

摘要：

本发明公开了一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺，由箱体和支板两部分组成，箱体呈正方或长方体，无盖，里面在距离底部15-25mm处安装有支板；支板上加工有整齐排列的固定坩埚的坩埚孔；每个坩埚孔都配备有尺寸大且不与坩埚相接触的上盖。上盖顶部有扣有小盖的上盖透气小口。本发明适用不同尺寸的箱式马弗炉、工业烧结炉；更换简单，快捷，可重复使用；可选择多种还原剂，经济实用，既适合一般长余辉材料的常规实验制备，也适合长余辉材料的工业化生产。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201010622170.5

申请日期：2010-12-29

公开/公告号：CN102183140A

公开/公告日：2011-09-14

主分类号：F27B5/04(2006.01)I

申请/专利权人:重庆文理学院

发明/设计人:徐文峰;廖晓玲

主申请人地址:402160 重庆市永川区红河大道319号

国别省市代码:重庆;85

权利要求：

一种长余辉材料还原气氛保护烧结装置及工艺，由箱体(1)和支板(2)两部分组成，其特征在于：箱体(1)呈正方或长方体，无盖；箱体(1)里面在距离底部15?25mm处安装有支板(2)；支板(2)上加工有整齐排列的固定坩埚(3)的坩埚孔(8)；每个坩埚孔(8)都配备有尺寸大且不与坩埚(3)相接触的上盖(4)。