二氧化碳循环到气化系统的方法

摘要：

一种在IGCC系统中制备合成气的方法，所述方法包括压缩和加热富二氧化碳气，以产生经加热压缩的富二氧化碳气，将加热压缩的富二氧化碳气与氧和原料混合，以形成原料混合物，使原料混合物经过气化，以产生合成气，使合成气在辐射合成气冷却器(144)中冷却，使在辐射合成气冷却器中冷却的合成气与压缩的富二氧化碳气接触，以进一步冷却合成气，从产物混合物去除一定量富二氧化碳气，并在与氧和原料混合前压缩去除的富二氧化碳气。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201010213450.0

申请日期：2010-06-13

公开/公告号：CN101928604A

公开/公告日：2010-12-29

主分类号：C10J3/46(2006.01)I

申请/专利权人:通用电气公司

发明/设计人:J·D·温特;P·S·华莱士;G·古尔科;P·S·萨克

主申请人地址:美国纽约州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人:徐晶%艾尼瓦尔

国别省市代码:美国;US

权利要求：

一种从气化系统(200)的第一合成气混合物循环二氧化碳的方法，所述方法包括：在分离装置(250)中从第一合成气混合物去除富二氧化碳气；压缩富二氧化碳气；并且将至少第一部分压缩的富二氧化碳气供到气化器。