基板处理系统和基板处理方法

摘要：

本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法。所述基板处理系统(10)包括输送部(15)、第一处理室(16)、第二处理室(18)和主控制部(30)。输送部(15)具有输送工件(20)的输送机械手(22)。第一处理室(16)和第二处理室(18)配置在输送部(15)的周围。第一处理室(16)和第二处理室(18)分别具有在搬入和搬出工件(20)时能打开或关闭的门(162、182)。主控制部(30)控制输送机械手(22)和门(162、182)的动作，使得输送机械手(22)不是对第一处理室(16)或第二处理室(18)中的任意一个连续进行搬入或搬出，而是对第一处理室(16)和第二处理室(18)交替进行搬入或搬出。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201010132170.7

申请日期：2010-03-09

公开/公告号：CN101839644A

公开/公告日：2010-09-22

主分类号：F27B17/00(2006.01)I

申请/专利权人:光洋热系统株式会社

发明/设计人:森晃一;吉原贤一;向井正行

主申请人地址:日本奈良县

专利代理机构:北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290

代理人:李雪春%武玉琴

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种基板处理系统，用于对基板进行热处理，包括：多个处理室，对基板进行热处理；输送机械手，对基板进行输送；以及控制部，控制所述处理室和所述输送机械手，所述基板处理系统的特征在于：所述处理室具有：多层架，能够把基板支承在各层上；以及门，在搬入和搬出基板时对应于多层架的所希望的层能够打开或关闭，所述控制部控制所述输送机械手和所述门的动作，把搬入到一个处理室内后经过了规定时间的基板，从该一个处理室搬出，接着把未处理基板搬入到该一个处理室内，然后，把搬入到另一个处理室内后经过了规定时间的基板，从该另一个处理室搬出，接着把未处理基板搬入到该另一个处理室内，通过以后对所述多个处理室也顺次继续这样的动作，来对所述多个处理室内的支承在所述多层架上的所有基板进行规定时间的热处理。