双组分喷嘴、集束喷嘴以及用于使流体雾化的方法

摘要：

本发明涉及一种具有喷嘴壳体的双组分喷嘴，其中所述喷嘴壳体具有至少一个用于有待雾化的流体（1）的第一流体入口、用于气态的流体（6）的第二流体入口、混合室（7）、喷嘴出口（48）和将所述喷嘴出口包围的环形缝隙开口（32），其中在所述喷嘴壳体的内部设置了用于在所述混合室中的壁体上从有待雾化的流体中产生膜的机构以及用于将气态的流体导入到所述混合室中的入口。按本发明，所述入口和混合室如此定向和构成，用于将所述气态的流体在基本上平行于所述壁体的情况下导入到所述混合室中并且在所述混合室的内部在基本上平行的情况下使所述由气态的流体构成的流体流从所述壁体的旁边流过。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200980154190.X

申请日期：2009-11-11

公开/公告号：CN102272524A

公开/公告日：2011-12-07

主分类号：F23D11/10(2006.01)I

申请/专利权人:迪特尔·沃尔兹

发明/设计人:迪特尔·沃尔兹

主申请人地址:德国巴登－巴登

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人:汲长志%杨国治

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

?具有喷嘴壳体的双组分喷嘴，其中所述喷嘴壳体具有至少一个用于有待雾化的流体的第一流体入口、用于气态的流体的第二流体入口、混合室、喷嘴出口和将所述喷嘴出口包围的环形缝隙开口，其中在所述喷嘴壳体的内部设置了用于在所述混合室中的壁体上从有待雾化的流体中产生膜的机构以及用于将气态的流体导入到所述混合室中的入口，其特征在于，所述入口和混合室如此定向和构成，用于将所述气态的流体在基本上平行于所述壁体的情况下导入到所述混合室中并且在所述混合室的内部在基本上平行的情况下使所述气态的流体从所述壁体的旁边流过。