EUVL用光学部件及其平滑方法

摘要：

本发明提供一种使EUVL用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面平滑的方法。本发明涉及一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，其包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200980105684.9

申请日期：2009-02-19

公开/公告号：CN101946208A

公开/公告日：2011-01-12

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:旭硝子株式会社

发明/设计人:小野元司;渡边满;伊藤正文

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人:陈海涛%樊卫民

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种使EUVL用光学部件的光学表面平滑的方法，所述方法包括：用波长为250nm以下的准分子激光以0.5～2.0J/cm2的能量密度照射EUV光刻(EUVL)用光学部件的具有凹形缺陷的光学表面，所述光学部件由包含SiO2作为主要成分的含TiO2的石英玻璃材料制成。