一种用于等离子体反应室的升降销

摘要：

本实用新型描述用来蚀刻工件的用于等离子体反应器的升降销。在一个实施例中，升降销包括具有环形横截面的纵向体，该体具有圆形的第一末端和圆形的第二末端；和形成在该第二末端中的凹进区域，该凹进区域适于可分离的连接到布置在等离子体反应室中的升降片，其中该体包括第一直径区域并且该凹进区域包括具有较小直径的通过侧翼分开的至少两个直径区域。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN200920001754.3

申请日期：2007-10-29

公开/公告号：CN201348719

公开/公告日：2009-11-18

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:应用材料股份有限公司

发明/设计人:理查德·莱温顿;迈克尔·N·格林博金;吉姆·K·尼古恩;达里恩·比文斯;马德哈唯·R·钱德拉乔德;阿杰伊·库玛

主申请人地址:美国加利福尼亚州

专利代理机构:北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人:徐金国

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1、一种用于等离子体反应室的升降销，其特征在于，包括：具有环形横截面的纵向体，该体具有圆形的第一末端和圆形的第二末端；和在所述第二末端中形成的凹进区域，所述凹进区域适于可分离的连接到设置在等离子体反应室中的升降板，其中所述体包括第一直径区域，并且所述凹进区域包括具有较小直径的被侧翼分开的至少两个直径区域。