APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板

摘要：

APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板，所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层，玻璃基板下表面镀膜，玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔，任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素，成像小孔方形区域边界边长不超过d单位mm，d＝L-2htanα；其中，L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长；h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离；α为APS太阳敏感器的视场角。本发明采用多孔阵中孔间特征独立，可快速识别被污染小孔，保证产品具有高的数据更新率，适于工程应用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910237338.8

申请日期：2009-11-10

公开/公告号：CN101726994A

公开/公告日：2010-06-09

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:北京控制工程研究所

发明/设计人:崔坚;张建福;余成武;莫亚男;王立;刘江

主申请人地址:100080 北京市海淀区北京2729信箱

专利代理机构:中国航天科技专利中心 11009

代理人:安丽

国别省市代码:北京;11

权利要求：

APS太阳敏感器可识别多孔掩膜板，其特征在于：所述的掩膜板包括玻璃基板及镀膜层，玻璃基板下表面镀膜，玻璃基板镀膜面上光刻至少3个成像小孔，任意两个成像小孔之间x方向距离、y方向距离中至少一个方向距离差异不小于20个像素，成像小孔方形区域边界边长不超过d单位mm，d＝L-2htanα；其中，L为APS太阳敏感器中的图像传感器有效像平面边长；h为掩膜板到所述的图像传感器像平面的距离；α为APS太阳敏感器的视场角。