光刻设备和器件制造方法

摘要：

提供了一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包括多个构图阵列和相应的多个耦合反射镜，布置每个耦合反射镜以将由相应的构图阵列之一选择性反射的辐射引导到该投影系统中。本发明还提供一种器件制造方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910151900.5

申请日期：2005-12-26

公开/公告号：CN101598904

公开/公告日：2009-12-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司%ASML控股有限公司

发明/设计人:A·J·布里克;J·J·M·巴塞曼斯;M·M·T·M·迪伊里奇斯;C·瓦格纳;L·赖齐科夫;S·Y·斯米诺夫;K·Z·特鲁斯特

主申请人地址:荷兰维尔德霍芬

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包括多个构图阵列和相应的多个耦合反射镜，布置每个耦合反射镜以将由相应的构图阵列之一选择性反射的辐射引导到该投影系统中。