光刻设备和运行光刻设备的方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910134770.4

申请日期：2009-04-22

公开/公告号：CN101571677

公开/公告日：2009-11-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:R·D·沃森;Y·J·L·M·凡达麦乐恩;J·H·W·雅各布斯;H·詹森;M·H·A·里恩德尔斯;J·J·S·M·梅坦斯;P·P·斯汀贾尔特;A·M·C·P·德琼;J·M·W·范德温克尔;J·P·达派兹赛纳;M·M·J·范德李;H·M·D·范里尔;G·塔纳撒

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种浸没式光刻设备，包括：入口，其构建成将清洁流体引入空间，将要被清洁的表面至少部分地限定所述空间；和液体密封，其构建成围绕所述空间的至少一部分进行密封，以阻止包围所述空间的流体进入所述空间。