化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物
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化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物

引用
本发明的目的在于提供不会影响作为功能性树脂组合物的基本特性、能进一步提高析像度的化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物。该化学放大型抗蚀剂组合物含有树脂和产酸剂,所述树脂含有在侧链具有对酸不稳定的基团的结构单元、式(I)表示的结构单元、以及具有多环式内酯结构的结构单元,并且所述树脂本身为可溶于有机溶剂,不溶或难溶于碱性水溶液,但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液的树脂,所述产酸剂是式(II)A<sup>+</sup>E<sup>-</sup>(II)表示的产酸剂。

发明专利

CN200910118251.9

2009-03-03

CN101546126

2009-09-30

G03F7/039(2006.01)I

住友化学株式会社

畑光宏;藤裕介;宫川贵行

日本国东京都

中科专利商标代理有限责任公司

朱 丹

日本;JP

1. 一种化学放大型抗蚀剂组合物,其特征在于,含有树脂和产酸剂,所述树脂含有在侧链具有对酸不稳定的基团的结构单元、式(I)所示的结构单元以及具有多环式内酯结构的结构单元,并且所述树脂本身为可溶于有机溶剂,不溶或难溶于碱性水溶液,但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液的树脂,式(I)中,X1表示氢原子、碳原子数为1~4的烷基或碳原子数为1~4的全氟烷基,Y分别独立地表示氢原子、烷基,n表示1~14的整数,R1~R4分别独立地表示氢原子、烷基或含卤素的烷基;所述产酸剂是式(II)所示的产酸剂,A+E- (II)式(II)中,A+表示有机平衡离子,E-为CF3SO3-、C2F5SO3-、C4F9SO3-、N(SO2C2F5)2-、N(SO2C4F9)2-、N(SO2C6H5)2-、C(SO2CF3)3-、R21O(CO)C(Y1)(Y2)SO3-,在R21O(CO)C(Y1)(Y2)SO3-中,R21表示可以被取代的碳原子数为1~30的烃基,烃基中含有的至少一个亚甲基可以任意被羰基、氧原子取代,Y1、Y2分别独立地表示氟原子或碳原子数为1~6的全氟烷基。
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2009-09-30公开
2013-07-10发明专利申请公布后的视为撤回
2011-03-23实质审查的生效
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