光刻设备和方法

摘要：

本发明公开了一种光刻设备和方法。具体地，本发明提供一种用于清洁衬底台或位于衬底台的顶部表面的物体的顶部表面的受限制的区域的方法。在正常成像过程中使用的光学系统被调整用于限制辐射束的横截面面积，以形成投射到受限制的区域上的清洁辐射束。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910118242.X

申请日期：2009-03-03

公开/公告号：CN101526756

公开/公告日：2009-09-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:凯恩·基维特斯;汉斯·詹森;瓦斯科·米谷埃尔·马蒂阿斯·萨拉奥

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种清洁在光刻设备中的衬底台或位于衬底台上的物体的顶部表面的区域的方法，所述方法包括步骤：在所述区域和所述光刻设备的光学系统的最终元件之间提供液体，其中光学系统在正常操作中用于产生图案化的辐射束并投影图案化的辐射束到衬底上；和用所述光学系统将清洁辐射束穿过所述液体投影到所述区域上；其中所述投影步骤包括调整所述光学系统以相对于所述图案化的辐射束限制投射到所述区域上的所述清洁辐射束的横截面面积。