一种透射光栅的制备方法

摘要：

本发明涉及一种透射光栅的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1.采用纯度大于99.99％的铝片制备具有三维层状周期性结构的多孔氧化铝薄膜；步骤2.将步骤1中得到的多孔氧化铝薄膜经乙醇清洗后晾干后利用匀胶机在多孔氧化铝薄膜表面覆盖一层厚度为0.8～1.2微米的光刻胶；步骤3.光将步骤2中得到的多孔氧化铝薄膜烘干，利用紫外光刻机将等间距、等宽度的平行线条结构刻制在多孔氧化铝薄膜表面的光刻胶上；步骤4.将步骤3中得到的表面刻有平行线条结构的多孔氧化铝薄膜浸泡在磷酸溶液中进行化学刻蚀，将多孔氧化铝薄膜表面刻有的平行线条结构转移到薄膜内部；步骤5.将多孔氧化铝薄膜表面残留的光刻胶用有机溶剂擦除，清洗后晾干。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910100142.4

申请日期：2009-06-24

公开/公告号：CN101598895

公开/公告日：2009-12-09

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所

发明/设计人:王 彪;张贤鹏;李 佳;宋伟杰;费广涛;崔 平

主申请人地址:315201浙江省宁波市镇海区庄市大道519号

专利代理机构:宁波诚源专利事务所有限公司

代理人:袁忠卫

国别省市代码:浙江;33

权利要求：

1、一种透射光栅的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1、采用纯度大于99.99％的铝片制备具有三维层状周期性结构的多孔氧化铝薄膜；步骤2、匀胶：将步骤1中得到的具有三维层状周期性结构的多孔氧化铝薄膜经乙醇清洗后晾干，然后利用匀胶机在多孔氧化铝薄膜表面覆盖一层厚度为0.8～1.2微米的光刻胶；步骤3、光刻：将步骤2中得到的覆盖有光刻胶的多孔氧化铝薄膜烘干，利用紫外光刻机将等间距、等宽度的平行线条结构刻制在多孔氧化铝薄膜表面的光刻胶上；步骤4、化学刻蚀：将步骤3中得到的表面刻有平行线条结构的多孔氧化铝薄膜浸泡在磷酸溶液中进行化学刻蚀，将多孔氧化铝薄膜表面刻有的平行线条结构转移到薄膜内部；步骤5、去除光刻胶：将步骤4中得到的经化学刻蚀后的多孔氧化铝薄膜表面残留的光刻胶用有机溶剂擦除，经乙醇清洗后晾干得到透射光栅。