光刻设备的对准基准板及其制造工艺方法

摘要：

本发明公开了光刻设备的对准基准板及其制造工艺方法，所述对准基准板的顶面同时包含反射型图形和透射型图形，反射型图形被用于生成反射图形衍射光，在反射型图形掩模薄膜之上的表面材料为高反射率光学材料薄膜，或者为高反射率光学材料薄膜和透明材料，透明材料在高反射率光学材料薄膜的上表面，透射形图形被用于调制投影系统投射目标构图图形所成的辐射空间图形；所述对准基准板制造工艺，通过刻蚀对准基准板的透明基底，增加反射型标记的槽深，并增加了反射型标记区域对入射光的反射率，实现了反射型标记反射的衍射效率提高，从而提高反射图形照射和衍射成像装置的探测信号，提高对准信号探测的信噪比，提高对准精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910052800.7

申请日期：2009-06-09

公开/公告号：CN101576714

公开/公告日：2009-11-11

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:李焕炀;徐荣伟;宋海军

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻设备的对准基准板结构，所述对准基准板置于光刻设备中工件基准高度处，作为光刻设备对准系统的对准基准，其特征在于所述对准基准板包括：反射型标记和透射型标记，设置于所述对准基准板的顶面；用于安装光电探测器阵列的盲孔和在工件台上固定对准基准板的磁块安装穴，设置于所述对准基准板的底面；所述对准基准板采用透明基底；其中，所述反射型标记的掩模薄膜的表面材料为高反射率光学材料薄膜，或者为高反射率光学材料薄膜和透明材料的结构。