一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
本发明提供了一种用于光刻设备的对准系统及对准方法，所述对准系统采用的参考标记的中间分支为共用参考标记，所述共用参考标记由不同方向的条形振幅光栅组成，形成新形式的参考标记，可以实现两个方向的位置扫描，使对准信号信噪比和强度与现有技术相比得到提高，能量利用率得到提高，得到的对准扫描信号没有出现明显的拐点，有利于后期信号探测和AGG增益等部分的处理，提高了对准精度。
发明专利
CN200910047573.9
2009-03-13
CN101510055
2009-08-19
G03F7/20(2006.01)I
上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司
杜聚有;徐荣伟;王诗华
201203上海市张江高科技园区张东路1525号
上海思微知识产权代理事务所
屈 蘅%李时云
上海;31
1、一种用于光刻设备的对准系统，包括：对准辐射源模块，提供用于对准系统的照明光束；照明模块，传输所述对准辐射源模块的照明光束，准直照明硅片或基准板上的三周期对准标记；对准光学模块，采集对准标记相应级次的衍射光束并相干成像在参考标记位置；以及信号探测模块，其包括：参考标记、光电探测器以及信号处理部分，通过对准标记衍射光束的相干成像与相应参考标记的扫描，探测和处理经过参考标记调制的对准光强信号；其特征在于，所述参考标记的中间分支为共用参考标记，其由不同方向的条形振幅光栅组成。