一种用于光刻设备的曝光控制系统及控制方法

摘要：

本发明提供了一种用于光刻设备的曝光控制系统及控制方法，所述曝光控制系统包括：主控单元；曝光系统控制单元，与所述主控单元电性连接；以及分控制模块，与所述曝光系统控制单元电性连接；所述曝光系统控制单元包括照明与投影物镜控制板以及与所述照明与投影物镜控制板电性连接的照明与传感器板，所述照明与投影物镜控制板接收所述主控单元下达的指令，通过所述照明与传感器板将所述指令传输至所述分控制模块，并通过所述照明与传感器板向所述主控单元反馈所述分控制模块动作执行情况的报告。所述控制系统结构紧凑、层次清晰、维护性强，减小了曝光控制系统实现的复杂程度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910047214.3

申请日期：2009-03-06

公开/公告号：CN101510054

公开/公告日：2009-08-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:孙智超;罗 闻;徐 文

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种用于光刻设备的曝光控制系统，包括：主控单元；曝光系统控制单元，与所述主控单元电性连接；以及分控制模块，与所述曝光系统控制单元电性连接；其特征在于，所述曝光系统控制单元包括照明与投影物镜控制板以及与所述照明与投影物镜控制板电性连接的照明与传感器板，所述照明与投影物镜控制板接收所述主控单元下达的指令，通过所述照明与传感器板将所述指令传输至所述分控制模块，并通过所述照明与传感器板向所述主控单元反馈所述分控制模块动作执行情况的报告。