一种用于光刻设备的对准系统和对准方法

摘要：

本发明提供了一种用于光刻设备的对准系统和对准方法，采用了两组或两组以上不同周期的振幅型参考光栅以及对准标记，所述参考光栅及所述对准标记的各分支光栅由宽度等差排列的条形结构组成，可使扫描强度信号峰值更尖锐，提高了对准系统的可靠性，对准过程中只使用对准标记的±1级衍射光束，对准标记中的较小周期光栅相干像与相应参考光栅扫描后，利用得到的扫描信号强度峰值作为粗捕获，在粗捕获基础上利用对准标记中较大周期光栅相干像的位相信息获取精捕获信息，并结合对准标记中的较小周期光栅相干像与相应参考光栅扫描得到的位相信息用于精对准，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差，降低了光学系统的复杂性，提高了光能利用率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910046828.X

申请日期：2009-02-27

公开/公告号：CN101566800

公开/公告日：2009-10-28

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司

发明/设计人:杜聚有

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种用于光刻设备的对准系统，包括：对准辐射源模块，提供用于对准系统的辐射源；照明模块，传输所述对准辐射源模块的辐射源，准直照明硅片或基准板上的对准标记；对准光学模块，采集对准标记相应级次的衍射光束并相干成像在振幅型参考光栅位置；以及信号探测模块，其包括：振幅型参考光栅、探测器以及信号处理部分，通过对准标记衍射光束的相干成像与相应振幅型参考光栅的扫描，探测和处理经过振幅型参考光栅调制的对准光强信号；其特征在于，所述振幅型参考光栅包括两组或两组以上不同周期的光栅，所述振幅型参考光栅的各分支光栅由宽度等差排列的条形结构组成；所述对准标记包括两组或两组以上不同周期的光栅，所述对准标记的各分支光栅由宽度等差排列的条形结构组成。