一种光瞳测量装置及图像处理方法

摘要：

本发明提出一种光瞳测量装置，包括：傅里叶透镜；进光孔，位于所述傅里叶透镜一侧的焦面上；电荷耦合器件，位于所述傅里叶透镜另一侧的焦面上；图像处理系统，和所述电荷耦合器件相连，本发明提供一种光刻曝光系统光瞳测量装置，可以在线的测量照明光瞳的光瞳质量，并可以利用光瞳的形貌诊断光学系统的设计质量和装调误差。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910046820.3

申请日期：2009-02-27

公开/公告号：CN101487987

公开/公告日：2009-07-22

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:郭 勇

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1. 一种光瞳测量装置，其特征在于包括：傅里叶透镜；进光孔，位于所述傅里叶透镜一侧的焦面上；电荷耦合器件，位于所述傅里叶透镜另一侧的焦面上；图像处理系统，和所述电荷耦合器件相连。