双工件台装置

摘要：

本发明提供了一种双工件台装置，包括基台、两个工件台、分别对所述两个工件台进行定位的两个定位单元、与所述两个工件台相对应的、平衡所述定位单元的反作用力的平衡质量系统、测量系统、控制系统，其中所述平衡质量系统包括两个分别与所述两个定位单元相对应的平衡质量单元。所述平衡质量单元可吸收所述定位单元的反作用力，各自的所述平衡质量单元在反作用力作用下实现了减小对整机框架的振动。由于所述两个平衡质量单元之间没有直接连接，其分别相对于基础框架运动，减少了两个工件台之间的相互干扰，提高两个工件台的运动精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910044994.6

申请日期：2009-01-07

公开/公告号：CN101526747

公开/公告日：2009-09-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:郑教增;单世宝;王天明;马雨雷

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1.一种双工件台装置，包括基台，两个工件台，分别对所述两个工件台进行定位的两个定位单元，与所述两个工件台相对应的、平衡所述定位单元的反作用力的平衡质量系统，测量系统，控制系统，其特征在于，所述平衡质量系统包括两个分别与所述两个定位单元相对应的平衡质量单元。