可调整零平面位置的垂向测量系统

摘要：

一种可调整零平面位置的垂向测量系统，包括双光楔机构放置于垂向测量系统的光路中，用于改变光路中光束的偏移量。双光楔机构沿光路依次包括第一楔形块和第二楔形块。第一楔形块包括入射面和第一斜面。第二楔形块的楔角与折射率与第一楔形块相同。第二楔形块包括出射面和第二斜面，出射面平行于入射面，第二斜面与第一斜面相对且相互平行。其中第一楔形块和第二楔形块沿水平方向和垂直方向相对移动时，改变入射光束的偏移量。本发明结构简便、灵活性好、调整速度快、精度高。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910044993.1

申请日期：2009-01-07

公开/公告号：CN101526746

公开/公告日：2009-09-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:金小兵;李志丹

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1.一种可调整零平面位置的垂向测量系统，包括光源发出入射光束，该入射光束到达被测试的硅片后，反射光束由该硅片反射至光电探测器，其特征是，该垂向测量系统包括：双光楔机构，放置于垂向测量系统的光路中，用于改变光路中光束的偏移量，其特征是，沿光路依次包括：第一楔形块，包括入射面和第一斜面；以及第二楔形块，该第二楔形块的楔角与折射率与该第一楔形块相同，该第二楔形块包括出射面和第二斜面，该出射面平行于该入射面，该第二斜面与该第一斜面相对且相互平行，其中该第一楔形块和该第二楔形块沿水平方向和垂直方向相对移动时，改变光束的偏移量。