光掩模材料、光掩模及光掩模的制造方法

摘要：

本发明涉及一种光掩模材料、光掩模及光掩模的制造方法。本发明提供一种在透明基材上具有含有遮光材料、由通式(1)表示的增感色素、能够生成自由基、酸或碱的引发剂化合物和利用自由基、酸或碱的至少任意一种反应的聚合性化合物的感光性层的光掩模材料，光掩模，以及光掩模的制造方法。在该光掩模的制造方法中，包括使用在全部质量中含有1质量％以上、10质量％以下从阴离子表面活性剂及非离子表面活性剂构成的组中选择的至少一种表面活性剂且pH为8～13的显影液，对利用近紫外光或可见光进行图像形状的曝光后的光掩模材料进行显影。[通式(1)中，R¹及R³彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团。X表示-N(R⁶R⁷)。R²、R⁴、R⁵、R⁶及R⁷彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团，R⁵可以为了形成脂肪族性或芳香族性的环而与R¹、R²、R³或R⁴结合。Z表示与相邻的原子共同形成酸性核所需的2价的非金属原子团。]

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910007992.X

申请日期：2009-03-06

公开/公告号：CN101526734

公开/公告日：2009-09-09

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:富士胶片株式会社

发明/设计人:长濑博幸

主申请人地址:日本国东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:朱 丹

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种光掩模材料，其中，在透明基材上具有含有遮光材料、下述通式(1)所示的增感色素、能够生成自由基、酸或碱的引发剂化合物和利用自由基、酸或碱的至少任意一种反应的聚合性化合物的感光性层，通式(1)中，R1及R3彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团，X表示-N(R6R7)，R2、R4、R5、R6及R7彼此独立地表示氢原子或一价的非金属原子团，R5可以为了形成脂肪族性或芳香族性的环而与R1、R2、R3或R4结合，Z表示与相邻的原子共同形成酸性核所需的2价的非金属原子团。