光刻设备和校准方法

摘要：

本发明提供一种台系统校准方法，其包括：响应设定点信号相对于编码器栅格移动所述台，并且通过传感器头与所述编码器栅格协作操作测量所述台的位置。台的位置通过台控制器进行控制。寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号。通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910003815.4

申请日期：2009-02-06

公开/公告号：CN101504511

公开/公告日：2009-08-12

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:M·W·M·范德维基斯特;G·安格利斯;R·G·克拉沃尔;M·R·汉姆尔斯;B·T·沃哈尔;P·霍埃克斯卓

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种台系统校准方法，其包括步骤：a)响应设定点信号，相对于编码器栅格移动台，所述台的位置通过台控制器进行控制；b)在所述移动过程中，通过传感器头与所述编码器栅格协作操作来测量所述台的位置；c)寄存表示设定点信号和由所述传感器头所测的台的位置之间的差异的信号；和d)通过表示所述差异的寄存信号校准所述台系统。