光阻液供应回收系统及光阻液回收方法

摘要：

本发明提供一种与以往相比可大幅提高光阻液的回收效率，可降低回收成本并且提高光阻液的再利用率的系统及方法。光阻液供应回收系统包括：旋转涂布机250等光阻液涂布装置；作为规定容量的供应兼回收容器的专用容器1，其兼用于向光阻液涂布装置供应光阻液的目的、以及从光阻液涂布装置回收已用过的光阻液的目的；供应配管，其在供应光阻液时使用，可与专用容器1以气密状态连接；以及回收配管253，其在回收已用过的光阻液时使用，可与专用容器1以气密状态连接。由此，可省去使用者方面进行回收或再利用的设备负担，从而可大幅削减回收费用与劳力。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910003780.4

申请日期：2009-01-21

公开/公告号：CN101498895

公开/公告日：2009-08-05

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:东京应化工业株式会社

发明/设计人:长谷川透;竹堤俊纪;升芳明

主申请人地址:日本神奈川县川崎市中原区中丸子150番地

专利代理机构:深圳创友专利商标代理有限公司

代理人:江耀纯

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种光阻液供应回收系统，其包括：光阻液涂布装置；规定容量的供应兼回收容器，其兼用于向所述光阻液涂布装置供应光阻液的目的、以及从所述光阻液涂布装置回收已用过的光阻液的目的；供应配管，其在供应所述光阻液时使用，可与所述供应兼回收容器以气密状态连接；以及回收配管，其在回收所述已用过的光阻液时使用，可与所述供应兼回收容器以气密状态连接。