利用光学显微镜的光刻系统

摘要：

本发明涉及一种利用光学显微镜的光刻系统，更具体而言，涉及一种在不以大量生产为目的的利用单位尺寸硅衬底的小规模研究活动中，利用了光学显微镜的光刻系统，该光学显微镜以低廉的费用能够形成多种选择性图案而不使用高价光掩模。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200910003167.2

申请日期：2009-01-08

公开/公告号：CN101546130

公开/公告日：2009-09-30

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:高丽大学校产学协力团

发明/设计人:金奎兑;朴应皙;张度永;李在祐

主申请人地址:韩国首尔

专利代理机构:北京北翔知识产权代理有限公司

代理人:谢 静%杨 勇

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1. 一种利用光学显微镜的光刻系统，其特征在于，包括：光学显微镜部，利用具有使感光剂反应的波长的光源对涂敷在衬底上的感光剂表面对焦并进行曝光；载物台部，与上述光学显微镜部的下部连接，装载有上述涂敷了感光剂的衬底，以只对所期望的感光剂部位照射光源的方式移动上述衬底；控制部，控制上述光学显微镜部和载物台部的整个系统。