弹性波器件及其制造方法

摘要：

弹性波器件的制造方法包括以下步骤：层叠步骤，在基板(1)上形成包含下部电极(2)、压电膜(3)和上部电极(4)的多个弹性波器件；测定步骤，测定基板(1)上的多个弹性波器件中的动作频率的分布；以及调整步骤，根据动作频率的分布，在各弹性波器件的所述谐振部中，形成所述弹性波器件的厚度与其他部分不同的调整区域，在所述调整步骤中，以使各弹性波器件的所述谐振部中的所述调整区域的面积根据所述测定出的所述动作频率的分布而不同的方式，形成所述调整区域。由此，能够利用较少步骤简单地调整弹性波器件的频率特性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200880131170.6

申请日期：2008-11-28

公开/公告号：CN102160284A

公开/公告日：2011-08-17

主分类号：H03H3/04(2006.01)I

申请/专利权人:富士通株式会社

发明/设计人:横山刚;谷口真司;岩城匡郁;原基扬;坂下武;西原时弘;上田政则

主申请人地址:日本神奈川县川崎市

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人:李辉%马建军

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种弹性波器件的制造方法，其中，该弹性波器件的制造方法包括以下步骤：层叠步骤，在基板上形成多个弹性波器件，该弹性波器件包含下部电极、设于所述下部电极上的压电膜、以及设于隔着所述压电膜与下部电极相对的位置上的上部电极；测定步骤，测定将所述下部电极和所述上部电极隔着压电膜相对的区域作为谐振部进行动作时的、所述基板上的多个弹性波器件中的动作频率的分布；以及调整步骤，根据所述动作频率的分布，在各弹性波器件的所述谐振部中，形成所述弹性波器件的厚度与其他部分不同的调整区域，在所述调整步骤中，以使各弹性波器件的所述谐振部中的所述调整区域的面积根据所述测定出的所述动作频率的分布而不同的方式，形成所述调整区域。