烃合成方法
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烃合成方法

引用
本发明涉及烃合成方法。更具体地,但并不是排他性地,本发明涉及使用活化催化剂的费托方法,并涉及这种活化催化剂的用途,其中所述费托方法的条件有助于实现低的酸选择性。更具体地,本发明涉及三相低温费托(LTFT)方法,其中通过使H2与CO在反应区内在铁基费托催化剂的存在下进行接触而将H2和CO的进料转化成烃及其可能的氧化产物,其中进料中H2∶CO的摩尔比为0.5~小于1.0,且其中根据下列步骤对所述铁基费托催化剂进行活化:(a)提供铁基催化剂,其包括处于正氧化态的铁;和(b)在反应器中将所述铁基催化剂与选自CO以及H2与CO的组合的还原气体接触;还原温度为至少245℃且低于280℃;还原气体压力为高于0.5MPa且不大于2.2MPa;且进料至反应器的总还原气体的GHSV为至少6000ml(N)/g催化剂/h,由此将催化剂中的处于正氧化态的铁还原。

发明专利

CN200880109696.4

2008-08-05

CN101809123A

2010-08-18

C10G2/00(2006.01)I

SASOL技术股份有限公司

J·J·胡塞尔;M·J·扬塞梵维伦

南非约翰内斯堡

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

柳冀

南非;ZA

一种三相低温费托(LTFT)方法,其中通过使H2与CO在反应区内在铁基费托催化剂的存在下进行接触而将H2和CO的进料转化成烃及其可能的氧化产物,其中进料中H2∶CO的摩尔比为0.5~小于1.0,且其中根据下列步骤对所述铁基费托催化剂进行活化:(a)提供铁基催化剂,其包括处于正氧化态的铁;和(b)在反应器中将所述铁基催化剂与选自CO以及H2与CO的组合的还原气体接触;还原温度为至少245℃且低于280℃;还原气体压力为高于0.5MPa且不大于2.2MPa;且进料至反应器的总还原气体的GHSV为至少6000ml(N)/g催化剂/h,由此将催化剂中的处于正氧化态的铁还原。
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2010-10-06实质审查的生效
2014-04-30授权
2016-09-28专利权的终止
2010-08-18公开
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