制造器件的方法和光刻设备

摘要：

一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将所述图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200880002419.3

申请日期：2008-01-16

公开/公告号：CN101595431

公开/公告日：2009-12-02

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:H·J·M·梅杰尔;M·J·M·林肯斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王新华

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种制造器件的方法，包括步骤：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围内一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。