一种掩膜版

摘要：

本实用新型适用于半导体光刻显影技术领域，提供了一种掩膜版，所述掩膜版具有一显影精度控制图标，所述显影精度控制图标包含有第一组刻度标记，第一组刻度标记由一组刻度标记图案组成，第一组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化，第一组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀。本实用新型通过在掩膜版上制作一显影精度控制图标，该显影精度控制图标中包含有一组刻度标记，每组刻度标记由线宽呈递增或递减顺序变化且线宽均匀的刻度标记图案组成，通过监控该刻度标记中刻度标记图案的显影程度实现控制显影精度，而不再需要根据显影液浓度的变化对显影时间进行控制或维持显影液的浓度恒定，实现简单且缓解了成本压力。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN200820147200.X

申请日期：2008-09-05

公开/公告号：CN201237695

公开/公告日：2009-05-13

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:清溢精密光电(深圳)有限公司

发明/设计人:李跃松;苏利刚

主申请人地址:518057广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号

专利代理机构:深圳中一专利商标事务所

代理人:张全文

国别省市代码:广东;44

权利要求：

1、一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版具有一显影精度控制图标，所述显影精度控制图标包含有第一组刻度标记，所述第一组刻度标记由一组刻度标记图案组成，所述第一组刻度标记中的各个刻度标记图案的线宽依次呈递增或递减变化，所述第一组刻度标记中的每个刻度标记图案的线宽均匀。