一种用于光刻机浸没控制装置
本实用新型公开了一种用于光刻机浸没控制装置。由注液腔和回收腔向外依次设置有环状的流场缓冲腔、密封结构和干燥腔。流场缓冲腔实时对曝光流场进行补偿，减少液体回流发生几率与强度；密封结构采用亲憎水表面特性处理与张力槽结构设计相结合方式，在垂直衬底方向上张力槽截面为向外倾斜的三角形，衬底运动牵拉的液体将在张力槽内形成回流，抑制液体泄漏；干燥腔内填充高吸水性物质、连通负压，实时排走可能存在的液滴残余。同时，液体输送方式采用正压供液、回收端自由流动，避免注液与回收压力不协调导致的流场波动。
实用新型
CN200820122034.8
2008-07-29
CN201233505
2009-05-06
G03F7/20(2006.01)I
浙江大学
付 新;陈 晖;陈文昱;阮晓东;杨华勇
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
杭州求是专利事务所有限公司
林怀禹
浙江;33
1. 一种用于光刻机浸没控制装置，在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没控制装置(2)；其特征在于所述的浸没控制装置(2)：包括密封构件(2A)、上端盖(2B)、注液管道(2C)和回收管道(2D)，其中：1)密封构件(2A)：从中心向外依次开有注液腔(4C)、回收腔(5A)、注液缓冲腔(4A)、回收缓冲腔(5C)、流场缓冲腔(6A)、1-10组内表面进行亲憎水处理的张力槽(7A)和干燥腔(8A)；注液腔(4C)和回收腔(5A)均为弧度为40-170°的环形圆柱结构互不连通；注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)互不连通，注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)的下表面距离密封构件(2A)下表面1-20mm，弧度分别与注液腔(4C)和回收腔(5A)相同的环形圆柱结构，注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)外侧面向外分别开有注液通道(4D)和回收通道(5D)；流场缓冲腔(6A)为连续环形圆柱结构，上方开有垂直衬底(3)的缓冲腔通孔(6C)；1-10组内表面进行亲憎水处理的张力槽(7A)，为同心圆的环形结构，过浸没控制装置(2)中心、垂直衬底(3)方向上截面为向外倾斜的三角形；干燥腔(8A)为连续环形圆柱结构，上方开有垂直衬底(3)且连接负压气体的干燥腔通孔(8B)，内部填充高吸水性的干燥腔填充物(8C)；2)上端盖(2B)：为环状结构，垂直于衬底(3)方向开有注液排气通道(4B)、该孔向下与注液缓冲腔(4A)相通；平行于衬底(3)方向，在注液腔(4C)一侧，开有环形圆柱状缓冲溢流槽(6D)，开槽弧度与注液腔(4C)相同，该槽向外与流场缓冲腔(6A)相通；3)注液管道(2C)和回收管道(2D)：注液管道(2C)插入注液通道(4D)，与注液缓冲腔(4A)连通；回收管道(2D)插入回收通道(5D)，与回收缓冲腔(5C)连通。