光阻供应系统

摘要：

本实用新型为一种光阻供应系统，其包括：一供给槽用以装设光阻液，一送液泵用以将所述的供给槽内的光阻液通过一送液线至一喷嘴，以及一脱气装置设在所述的送液在线，用以接入所述的送液泵送出的光阻液，且分离除去光阻液内的气体成分，再将除去气体的光阻液送出，用以提供已脱气泡的光阻液可由喷嘴喷吐出，通过良好质量的光阻液，可提高微影加工中光阻覆盖在芯片的良率与可靠度。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN200820009966.1

申请日期：2008-04-28

公开/公告号：CN201188171

公开/公告日：2009-01-28

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:慧竹开发有限公司

发明/设计人:尹安和

主申请人地址:台湾省台中市

专利代理机构:北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司

代理人:孙皓晨

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1.一种光阻供应系统，其应用在光阻涂盖加工的光阻供应，其特征在于，包 括： 一供给槽(11)，用以装设光阻液(20)； 一送液泵(12)，其分别与所述的供给槽(11)以及一送液线(13)相连接，用以 将所述的供给槽(11)内的光阻液(20)通过所述的送液线(13)至一喷嘴(16)；以及 一脱气装置(14)，其设在所述的送液线(13)上，用以接入所述的送液泵(12) 送出的光阻液(20)，且分离除去光阻液内(20)的气体成分(21)，再将除去气体的 光阻液(20)送出。