FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法

摘要：

一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件(2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作(3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理(4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理(5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗(6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。利用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜板，投入较低，生产周期较短。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810217118.4

申请日期：2008-10-28

公开/公告号：CN101393386

公开/公告日：2009-03-25

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:清溢精密光电（深圳）有限公司

发明/设计人:熊启龙

主申请人地址:518057广东省深圳市高新技术工业区北区松坪山朗山二路8号

专利代理机构:深圳中一专利商标事务所

代理人:张全文

国别省市代码:广东;44

权利要求：

1、一种用FPD掩膜版制作设备制作Reticle掩膜版的方法，包括以下步骤：(1)将Reticle掩膜板设计的图形通过计算机辅助处理转化成Reticle掩膜版曝光设备识别的电子数据文件；(2)通过Reticle掩膜版曝光设备将步骤(1)取得的电子数据文件在Reticle掩膜板原料上进行激光直写光刻操作；(3)将Reticle掩膜板原料进行显影处理；(4)将Reticle掩膜板原料进行蚀刻处理；(5)将Reticle掩膜板从Reticle掩膜板原料上剥离并对其清洗；(6)将Reticle掩膜板保护膜贴合在Reticle掩膜板的表面上。