使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法

摘要：

一种用于在目标物上写入图案的无掩模光刻系统。该系统可包括照明系统，目标物，空间光调制器(SLM)，和控制器。在目标物接收光之前，SLM可使来自照明系统的光形成图案。SLM可包括前组SLM和后组SLM。前和后组中的SLM根据目标物的扫描方向而改变。控制器可根据光脉冲期间信息，有关SLM物理布局信息，和目标物扫描速度其中至少之一，来发送控制信号。通过使用多种方法，该系统还可校正剂量的非均匀性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810214913.8

申请日期：2004-05-28

公开/公告号：CN101344732

公开/公告日：2009-01-14

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML控股股份有限公司

发明/设计人:阿诺·布里克;温斯莱奥·A.·切布海尔;贾森·D·亨特斯坦;安德鲁·W·麦卡罗;所罗门·S·沃瑟曼

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种用于在无掩模光刻中控制剂量的方法，包括如下步骤：测量来自SLM的一系列脉冲中每个脉冲中所传递的剂量；基于测量步骤计算剂量差错；基于剂量差错计算校正覆盖剂量；和利用最后一组SLM来应用校正覆盖剂量。