剥离方法及借此制造用于液晶显示装置的阵列基板的方法

摘要：

本发明涉及剥离方法及借此制造用于液晶显示装置的阵列基板的方法。该剥离方法包括：在基板上形成第一材料层；在第一材料层上形成包含第一开孔和第二开孔的光刻胶图案；使用光刻胶图案作为构图掩模而对第一材料层构图，从而形成材料图案，材料图案具有位于材料图案内的第一沟槽和第二沟槽，第一沟槽和第二沟槽分别对应于第一开孔和第二开孔；在包括光刻胶图案及第一沟槽和第二沟槽的基板的整个表面上形成第二材料层；及同时去除光刻胶图案和位于光刻胶图案上的第二材料层，其中材料图案的在第一与第二沟槽之间的部分和材料图案的在第一与第二沟槽侧边的部分整体上构成了线。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810210365.1

申请日期：2008-07-18

公开/公告号：CN101349877

公开/公告日：2009-01-21

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:乐金显示有限公司

发明/设计人:郭喜荣;洪玄硕;林周洙;金泓植

主申请人地址:韩国首尔

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司

代理人:李 辉%孙海龙

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1、一种剥离方法，该方法包括：在基板上形成第一材料层；在所述第一材料层上形成包含第一开孔和第二开孔的光刻胶图案；使用所述光刻胶图案作为构图掩模而对所述第一材料层进行构图，从而形成材料图案，所述材料图案具有位于所述材料图案内的第一沟槽和第二沟槽，所述第一沟槽和第二沟槽分别对应于所述第一开孔和第二开孔；在包括所述光刻胶图案及所述第一沟槽和第二沟槽的所述基板的整个表面上形成第二材料层；及同时去除所述光刻胶图案和所述光刻胶图案上的所述第二材料层，其中所述材料图案的在所述第一沟槽与第二沟槽之间的部分和所述材料图案的在所述第一沟槽与第二沟槽侧边的部分整体上构成了线。