双面位置对准装置与方法

摘要：

本发明提出一种双面位置对准装置及方法。双面位置对准装置包括具有掩模对准标记的掩模版、具有基准对准标记的工件台、硅片照明系统和光学投影系统，且上述掩模版为水平设置，更包括掩模位置对准装置、曝光对象、第一面位置对准装置、第二面位置对准装置、图像采集与处理系统以及控制系统。本发明的双面位置对准装置及方法可以降低曝光对象工件台结构设计和装配的复杂度，也可提高硅片背面位置对准装置对硅片背面对准标记的工艺适应性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810204774.0

申请日期：2008-12-17

公开/公告号：CN101436006

公开/公告日：2009-05-20

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:徐 兵;吕晓薇;周 畅;李志丹

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种双面位置对准装置，具有掩模对准标记的掩模版、具有基准对准标记的工件台、硅片照明系统和光学投影系统，且上述掩模版为水平设置，其特征在于包括：掩模位置对准装置，设置于上述掩模版的上方，且上述掩模位置对准装置包括紫外成像探测器件，上述掩模对准标记和上述基准对准标记分别成像于上述紫外成像探测器件上；曝光对象，设置于上述工件台，且上述曝光对象包括第一面和第二面，且上述第一面包括第一位置对准标记，上述第二面包括第二位置对准标记；第一面位置对准装置，设置于上述曝光对象的上方和上述光学投影系统的一侧，且上述第一面位置对准装置包括可见光成像探测器件，上述基准对准标记和上述第一位置对准标记分别成像于上述可见光成像探测器件上；第二面位置对准装置，设置于上述曝光对象的上方，并且与上述第一面位置对准装置设置于上述光学投影系统的同一侧，且上述第二面位置对准装置包括红外成像探测器件，上述基准对准标记和上述第二位置对准标记分别成像于上述红外成像探测器件上；图像采集与处理系统，采集上述掩模对准标记和上述基准对准标记在上述紫外成像探测器件上所成的像以对准上述掩模版和上述工件台，采集上述基准对准标记和上述第一位置对准标记在上述可见光成像探测器件上所成的像以对准上述曝光对象的上述第一面和上述工件台，并采集上述基准对准标记和上述第二位置对准标记在上述红外成像探测器件上所成的像以对准上述曝光对象的上述第二面和上述工件台；以及控制系统，控制上述掩模版和上述曝光对象的上述第一面对准，以及控制上述掩模版和上述曝光对象的上述第二面对准。