与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物

摘要：

本发明涉及含硅有机涂料组合物，特别是抗反射涂料组合物，其包含其中发色团残基如苯基与硅原子隔离的重复单元。另一方面，提供了作为液态(有机溶剂)组合物配制的含硅底层组合物，其中溶剂组分中的至少一种溶剂含有羟基。与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810189570.4

申请日期：2008-11-12

公开/公告号：CN101539722

公开/公告日：2009-09-23

主分类号：G03F7/004(2006.01)I

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限公司

发明/设计人:J·P·阿马拉;N·普格里亚诺;J·W·宋;M·K·噶拉格尔;M·S·卡斯托拉诺

主申请人地址:美国马萨诸塞州

专利代理机构:上海专利商标事务所有限公司

代理人:郭 辉

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1.一种经涂覆的底材，包括：一种含有有机硅树脂的涂料组合物层；和一种位于该涂料组合物层上的光刻胶组合物层；其中，所述有机硅树脂可以通过含硅化合物反应获得，所述含硅化合物具有一个或更多用至少两个或多个碳或杂原子与最邻近的硅原子或芳香族残基隔离的硅原子。