具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法

摘要：

本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合用于平版印刷术，提供了优异的光学和机械性能，并表现出高的蚀刻选择性。另外，通过旋涂技术能够容易地施加该硬掩模组合物。使用硬掩模组合物形成的硬掩模层可与集成电路制造工艺相容。有利地，该硬掩模组合物用于短波长平版印刷术。具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810187921.8

申请日期：2008-12-23

公开/公告号：CN101470352

公开/公告日：2009-07-01

主分类号：G03F7/09(2006.01)I

申请/专利权人:第一毛织株式会社

发明/设计人:田桓承;金钟涉;尹敬皓;金旼秀;李镇国;宋知胤

主申请人地址:韩国庆尚北道

专利代理机构:北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人:章社杲%张 英

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1. 一种由化学式1表示的含芳香环聚合物：其中m和n满足关系式1≤m<190，0≤n<190以及1≤m+n<190，A1选自以及其中每一个R1表示氢原子、C1-C10烷基基团、C6-C10芳基基团、烯丙基基团或卤素原子，而每一个R2表示氢原子、羟基基团、氨基基团(-NH2)、烷氧基基团(-OR)(R是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)或二烷基氨基基团(-NRR’)(R和R’每一个独立地是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)，A2选自以及其中每一个R1表示氢原子、C1-C10烷基基团、C6-C10芳基基团、烯丙基基团或卤素原子，而每一个R2表示氢原子、羟基基团、氨基基团(-NH2)、烷氧基基团(-OR)(R是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)或二烷基氨基基团(-NRR’)(R和R’每一个独立地是C1-C10烷基或C6-C10芳基基团)，以及B1和B2每一个独立地选自-CH2-、以及