图像传感器及其制造方法

摘要：

一种制造图像传感器的方法，包括：在图像传感器的表面上形成光刻胶层；使用用于制造多个微透镜的掩膜来对该光刻胶层进行曝光和显影，以便形成光刻胶图样，其中该掩膜具有多个相互分开排列的第一光遮蔽图样以及多个第二光遮蔽图样，其中每个第二光遮蔽图样形成于一个部分，在该部分上第一光遮蔽图样的四个相邻的边缘是居中的；以及回流光刻胶图样以在每个部分上制造凹透镜和多个微透镜，其中在该每个部分上微透镜的四个相邻边缘是居中的。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810186218.5

申请日期：2008-12-17

公开/公告号：CN101464624

公开/公告日：2009-06-24

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:东部高科股份有限公司

发明/设计人:金载熙

主申请人地址:韩国首尔

专利代理机构:北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人:李丙林%张 英

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1. 一种微透镜掩膜，包括：多个第一光遮蔽图样，相互分开排列；以及第二光遮蔽图样，形成在一个位置上，所述位置基本上位于所述多个第一光遮蔽图样的一组相邻边缘的中部。