具有主动阻尼组件的光刻设备

摘要：

本发明公开了一种具有主动阻尼组件的光刻设备，包括用以将图案化的辐射束投影到衬底的投影系统，和用于衰减至少一部分该投影系统的振动的阻尼系统，所述阻尼系统包括界面阻尼块体和用以衰减至少一部分该界面阻尼块体振动的主动阻尼子系统，所述界面阻尼块体连接到该投影系统，而所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体，所述主动阻尼子系统包括用于检测所述界面阻尼块体位置的量的传感器和用于根据所述传感器提供的信号施加作用力到界面阻尼块体的致动器。所述阻尼系统还包括连接到界面阻尼块体上并构造成阻滞所述界面阻尼块体以界面阻尼块体的本征频率移动的界面阻尼装置。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810170899.6

申请日期：2008-10-23

公开/公告号：CN101446771

公开/公告日：2009-06-03

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:H·巴特勒;E·R·鲁普斯卓;M·W·M·范德维基斯特;J·德皮;C·A·L·德霍恩;S·布斯克尔

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻设备，其包括：照射系统，构造成调节辐射束；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；投影系统，构造成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分；和，阻尼系统，用于衰减至少部分所述投影系统的振动，所述阻尼系统包括：连接到所述投影系统的界面阻尼块体和用于衰减至少部分所述界面阻尼块体的振动的主动阻尼子系统，所述主动阻尼子系统连接到所述界面阻尼块体上，主动阻尼子系统包括：传感器，构造成检测所述界面阻尼块体位置的量；和致动器，构造成根据所述传感器提供的信号施加作用力到所述界面阻尼块体；和界面阻尼装置，其连接到所述界面阻尼块体，并构造成阻滞所述界面阻尼块体以所述界面阻尼块的本征频率移动。