两面曝光装置

摘要：

本发明提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。从光源灯(10)发出的光在通过椭圆镜(11)会聚、并通过反射镜(12)折回之后，在复眼透镜(13)部分聚焦，并通过分光镜(20)分成反射光和透射光，通过光源光闸(21)控制光量，进而由准直镜(3)反射而成为平行光，并透过光掩模(51)、光掩模(52)照射到基板(50)的表面侧和背面侧。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810168024.2

申请日期：2008-09-25

公开/公告号：CN101403863

公开/公告日：2009-04-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社阿迪泰克工程

发明/设计人:浅见正利

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司

代理人:陈 坚

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种两面曝光装置，其特征在于，该两面曝光装置包括：一个光源；分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。